真空電鍍是一種物理沉積現象。即在真空狀態(tài)下注入氬氣，氬氣撞擊靶材，靶材分離成分子被導電的貨品吸附形成一層均勻光滑的表面層。為了滿足更安全、更節(jié)能、降低噪聲、減少污染物排放的要求，在表面處理工藝上，真空電鍍已經成為環(huán)保新趨勢。與一般的電鍍不同，真空電鍍更加環(huán)保，同時，真空電鍍可以生產出普通電鍍無法達到的光澤度很好的黑色效果。

真空電鍍的主要分類：

真空電鍍主要包括真空蒸鍍、濺射鍍和離子鍍幾種類型。它們都是采用在真空條件下，通過蒸餾或濺射等方式在塑件表面沉積各種金屬和非金屬薄膜，通過這樣的方式可以得到非常薄的表面鍍層，同時具有速度快附著力好的突出優(yōu)點，但是價格也較高，可以進行操作的金屬類型較少，一般用來作較高檔產品的功能性鍍層，例如作為內部屏蔽層使用。常見的塑膠產品電鍍工藝有兩種：水電鍍和真空離子鍍。

真空離子鍍，又稱真空鍍膜.真空電鍍的做法是一種比較流行的做法，做出來的產品金屬感強，亮度高.而相對其他的鍍膜法來說，成本較低，對環(huán)境的污染小，為各行業(yè)廣泛采用。